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半導體潔凈室氣體分析監(jiān)測系統(tǒng)通過污染物源頭控制、傳播控制，實時監(jiān)控污染物濃度并結(jié)合多級過濾器以及新風系統(tǒng)來實現(xiàn)，持久監(jiān)測AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩(wěn)定生產(chǎn)、預防過濾器突發(fā)性壽命減少等。

煤自燃束管監(jiān)測特點：粉塵過濾器、單管、束管、分路箱、抽?泵、?體采樣控制柜、監(jiān)控微機、懸臂梁?克風光聲光譜多?體分析儀、熱導多?體分析儀、打印輸出設備、網(wǎng)卡、系統(tǒng)軟件組成。

EDK 6900P系列TDL激光微量便攜氣體分析儀高靈敏度和寬的動態(tài)量程，是可調(diào)諧半導體激光器光譜（TDLS）技術(shù)的基本特性，可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。

TDL激光微量在線氣體分析儀基于非色散紫外吸收光譜NDUV技術(shù)來對氫氣中Cl2進行分析。NDUV非色散紫外吸收光譜技術(shù)是確定復雜氣體混合物中濃度的一種普遍方法。

空氣分子污染物監(jiān)測系統(tǒng)快速監(jiān)測、報警、極低濃度測量、寬測量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量，當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應 時，將深深的影響半導體器件質(zhì)量。